目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm。

預處理必須能夠去除原水中的絕大多數雜質以滿足反滲透進水要求，確保產水水質達標、產水量穩定、系統回收率長期維持不變、延長反滲透膜使用壽命等。

壓力表：主要設在泵前、泵后、濃水、產水側，顯示反滲透裝置的運行壓力，根據壓力數值判斷膜及濾芯是否堵塞。

水在加熱過程中，由于蒸發濃縮，水中的金屬陽離子同陰離子結合在一起，形成水垢附著在受熱面上，水中這些金屬離子的總濃度稱為水的硬度。

超純水廣泛應用于電子芯片、醫藥生物、精細化工等其他行業，理論電阻率最高為18.25 MΩ·cm。 在EDI裝置后，通常配備拋光混床作為最終的精處理裝置，設計流速一般為40-60m/h。

在集成電路生產中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，其中包括硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。

化工行業中的純水主要應用于電池溶劑用水、化學分析、化工材料、產品清洗、物質的分離、濃縮、提純等產線，純水電導率0.1uS/cm-15uS/cm即可滿足要求。

在純水設備中通過前置預處理裝置，對原水進行初步的過濾，達到反滲透主機的進水要求。

超純水設備采用高精密器件，無易損件，只需按時對設備進行維護保養，就可以增加設備使用時間。