【武漢純水設備】核子級拋光混床超純水系統工藝流程

超純水廣泛應用于電子芯片、醫藥生物、精細化工等其他行業，理論電阻率最高為18.25 MΩ·cm。 在EDI裝置后，通常配備拋光混床作為最終的精處理裝置，設計流速一般為40-60m/h。

這種拋光混床樹脂采用相對密度很接近的陰樹脂和陽樹脂的混合物，由于無法將這種樹脂的陰、陽樹脂分離，不能用酸堿再生。

反滲透+EDI +拋光混床的超純水系統工藝流程：

原水箱→原水泵→石英砂過濾器→活性碳過濾器→軟化器→保安過濾器→一級高壓泵→一級反滲透→中間水箱→二級高壓泵→二級反滲透系→純水箱→純水泵→TOC分解器→精密過濾器→EDI裝置→純水箱→純水泵→拋光混床→精密過濾器→用水點武漢反滲透純水設備武漢EDI超純水處理設備 武漢工業純水設備 武漢實驗室超純水設備 武漢純化水設備