【武漢純水設備】集成電路生產用超純水

在集成電路生產中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，其中包括硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。

集成電路生產過程中大量工序需要使用超純水，其水質與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。

水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬 （Au、Ag、Cu等）會使PN結耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導體特性惡化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會使P型硅片上的局部區域變為N型硅而導致器件性能變壞，水中的顆粒（包括細菌）如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。

超純水中的各種離子化合物已去除至極低，電阻率最大能達到18.25MΩ.cm，滿足集成電路生產工藝要求。武漢反滲透純水設備 武漢EDI超純水處理設備 武漢工業純水設備 武漢實驗室超純水設備 武漢純化水設備