在集成電路生產中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，其中包括硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。

超濾是一種加壓膜分離技術，當被處理的水借助于外界壓力的作用，以一定的流速通過膜表面時，水分子和分子量小于300—500的溶質透過膜，而大于膜孔的微粒、大分子等由于篩分作用被截留，從而使水得到純化。

汽車工廠金屬制品的生產過程中，用電泳法將涂料沉積到金屬表面上后，必需用清水將產品上吸著的電鍍液洗掉。洗滌得到含涂料1～2％的淋洗廢水，用超濾裝置分離出清水，涂料得到濃縮后可以重新用于電涂，清水可直接用于清洗，可實現水的循環使用。

在超大規模集成電路的超純水系統中，水質的主要指標為：電阻率、微粒、TOC(總有機硅)、堿土金屬、重金屬、溶解氧等。在制造過程中，與硅片接觸的水所含離子越多，對產品良品率影響就越大。

化工行業中的純水主要應用于電池溶劑用水、化學分析、化工材料、產品清洗、物質的分離、濃縮、提純等產線，純水電導率0.1uS/cm-15uS/cm即可滿足要求。

pH值對脫鹽率的影響：當PH值小于8時，水中的C032-和HCO3-開始部分轉化為CO2，當PH值小于4時，水中的C032-和HCO3-全部轉化為CO2。

大型反滲透設備中加藥裝置對反滲透膜的運轉十分重要，加藥系統要設計合理，運行過程中要做好檢修工作。

在純水設備中通過前置預處理裝置，對原水進行初步的過濾，達到反滲透主機的進水要求。

超純水設備采用高精密器件，無易損件，只需按時對設備進行維護保養，就可以增加設備使用時間。